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柵極氧化層在SiC MOSFET設計中的重要作用
柵極氧化層在SiC MOSFET設計中的重要作用
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·英飛凌工業半導體 趙佳 碳化硅功率半導體在光伏、充電、電動汽車等行業得到了廣泛應用,其潛力毋庸置疑。然而,從當前高功率碳化硅MOSFET來看,仍存在一個難題:即如何實現平衡性能、魯棒性、可靠性和易用性的設計。比導通電阻是衡量SiC MOSFET技術先進性的關鍵參數,但其它標準,例如可靠性,也是制約器件表現的重要因素。對于不同的應用,導通電阻與可靠性之間的折衷也略有差異。因此,合理的器件定義應當保證設計靈活性,以滿足不同的任務需求,無需大量設計工作和設計布局變化。
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