12月16日，哈爾濱工業(yè)大學(xué)（深圳）消息，該校集成電路學(xué)院教授宋清海、周宇團(tuán)隊(duì)在碳化硅集成光量子糾纏器件領(lǐng)域取得新突破，將進(jìn)一步推進(jìn)集成光量子信息技術(shù)在量子網(wǎng)絡(luò)和量子傳感領(lǐng)域的應(yīng)用。相關(guān)研究成果于近日發(fā)表在《自然·通訊》上。 研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)在絕緣體上碳化硅材料（SiCOI）上首先制備出單個(gè)電子自旋陣列，并通過(guò)精細(xì)操控展示了這些自旋的相干特性。 同時(shí)，研究團(tuán)隊(duì)將特殊的碳化硅（SiC）外延層晶圓與氧化硅晶圓結(jié)合，通過(guò)磨削和拋光技術(shù)將碳化硅層減薄到200納米。 隨后，研究團(tuán)隊(duì)利用離子注入技術(shù)，在碳化硅層[登陸后可查看全文]