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    日本開發(fā)新技術(shù),可實現(xiàn)GaN垂直導電

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    當?shù)貢r間11月13日,沖電氣工業(yè)株式會社(OKI)與信越化學合作,宣布成功開發(fā)出一種技術(shù),該技術(shù)使用OKI的CFB(晶體薄膜鍵合)技術(shù),從信越化學特殊改進的QST(Qromis襯底技術(shù))基板上僅剝離氮化鎵(GaN)功能層,并將其粘合到不同材料的基材上。   該技術(shù)實現(xiàn)了GaN的垂直導電,有望為可控制大電流的垂直GaN功率器件的制造和商業(yè)化做出貢獻。兩家公司將進一步合作開發(fā)垂直GaN功率器件,并與制造這些器件的公司合作,讓這些器件能應用到實際生產(chǎn)生活中。   GaN功率器件因兼具高頻率與低功耗特性而備受關(guān)注,尤其在1800V以上高[登陸后可查看全文]
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