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    三星首批面向AI時代的QLC第九代V-NAND啟動量產

    已有853次閱讀2024-09-12標簽:
     三星最新的QLC V-NAND綜合采用了多項突破性技術,其中通道孔蝕刻技術能基于雙堆棧架構實現最高單元層數

    推出的三星首批QLC和TLC第九代V-NAND,為各種AI應用提供優質內存解決方案

      三星電子今日宣布,三星首款1太比特(Tb)四層單元(QLC)第九代V-NAND(V-NAND)已正式開始量產。

      三星半導體1TB QLC第九代V-NAND

      今年四月,三星啟動了其首批三層單元(TLC)第九代V-NAND的量產,隨后又率先實現了QLC 第九代V-NAND的量產,這進一步鞏固了三星在高容量、高性能NAND閃存市場中的地位。

      “在距上次TLC版本量產僅四個月后,QLC第九代V-NAND產品成功啟動量產,使我們能夠提供,能夠滿足人工智能時代需求的完整陣容的SSD解決方案。”三星電子執行副總裁兼閃存產品與技術負責人SungHoi Hur表示:“隨著企業級SSD市場呈現日益增長的趨勢,對人工智能應用的需求更加強勁,我們將通過QLC和TLC第九代V-NAND繼續鞏固三星在該領域的市場地位。”

      三星計劃擴大QLC第九代V- NAND的應用范圍,從品牌消費類產品開始,擴展到移動通用閃存(UFS)、個人電腦和服務器SSD,為包括云服務提供商在內的客戶提供服務。

      三星半導體1TB QLC第九代V-NAND

     

      三星QLC第九代V-NAND綜合運用多項創新成果,實現了多項技術突破。

      • 三星引以為傲的通道孔蝕刻技術(Channel Hole Etching),能夠基于雙堆棧架構實現當前業內最高的單元層數。三星運用在TCL第九代V-NAND中積累的技術經驗,優化了存儲單元面積及外圍電路,位密度比上一代QLC V-NAND提升約86%。

      • 預設模具(Designed Mold)技術能夠調整控制存儲單元的字線(WL)間距,確保同一單元層內和單元層之間的存儲單元的特性保持一致,達到最佳效果。V-NAND層數越多,存儲單元特性越重要。采用預設模具技術使得數據保存性能相比之前的版本提升約20%,增強了產品的可靠性。

      • 預測程序(Predictive Program)技術能夠預測并控制存儲單元的狀態變化,盡可能減少不必要的操作。這項技術進步讓三星QLC第九代V-NAND的寫入性能翻倍,數據輸入/輸出速度提升60%。

      • 低功耗設計(Low-Power Design)技術使得數據讀取功耗約分別下降了約30%和50%。這項技術降低了驅動NAND存儲單元所需的電壓,能夠僅感測必要的位線(BL),從而盡可能減少功耗。

      關于三星電子

      三星以不斷創新的思想與技術激勵世界、塑造未來。重新定義電視、智能手機、可穿戴設備、平板電腦、數碼電器、網絡系統、存儲、系統集成電路、半導體代工制造及LED解決方案。通過SmartThings生態系統、以及與伙伴的開放合作,為消費提供無縫銜接的順滑體驗。欲了解更多最新消息,請訪問三星新聞中心:news.samsung.com.

      免責聲明:除非經特殊說明,本文中所涉及的數據均為三星內部測試結果,涉及的對比均為與三星產品相比較。

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