摩爾定律的推進(jìn)速度不再像以前那樣快,在 2 納米以下甚至進(jìn)入埃級(jí)別,競(jìng)爭對(duì)手正在努力追趕。荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML能否繼續(xù)保持其在極紫外(EUV)光刻設(shè)備市場(chǎng)的壟斷領(lǐng)先地位?
全球最先進(jìn)的高數(shù)值孔徑 EUV 機(jī)器會(huì)成為客戶實(shí)現(xiàn)技術(shù)跨越的終極武器嗎?地緣政治的不確定性將如何改變ASML未來的戰(zhàn)略?
TechInsights 副主席 G. Dan Hutcheson 自 1970 年代以來一直報(bào)道 ASML,當(dāng)時(shí) ASML 還是飛利浦的子公司,而《焦點(diǎn) – ASML 之路》一書的作者、荷蘭報(bào)紙 NRC 的記者 Marc Hijink進(jìn)行一次富有洞察力的演講來解決這些問題。
應(yīng)對(duì)地緣政治的不確定性
盡管ASML和其他半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商受益于美國對(duì)中國出口管制所驅(qū)動(dòng)的需求,但隨著額外產(chǎn)能和生態(tài)系統(tǒng)的建立,地緣政治可能對(duì)該行業(yè)產(chǎn)生長期影響。
Hutcheson 和 Hijink 看到 ASML 追隨客戶的腳步,將其生產(chǎn)從西太平洋走廊分散到美國和歐洲。盡管如此,其客戶晶圓廠運(yùn)營的效率可能仍令人擔(dān)憂。
“我們正處于一個(gè)工具利用率較低的新世界,” Hutcheson說,“問題是,如果你找不到工人來運(yùn)行工具或修理它們,讓它們保持運(yùn)行,你的晶圓廠是沒用的。”
Hijink觀察到,盡管各國和地區(qū)都在努力本土化,但由于韓國和中國臺(tái)灣仍然是ASML擴(kuò)張的重要組成部分,因此存在人才短缺問題,亞洲未來仍將是重要的芯片生產(chǎn)中心。
ASML的壟斷地位不太可能受到挑戰(zhàn)
然而,Hijink 警告說,“ASML 最擔(dān)心的是,目前對(duì)中國技術(shù)的限制甚至可能會(huì)在長期內(nèi)刺激它并造成更大的問題。”他指出,中國越少獲得這些西方光刻工具,中國公司就越傾向于建造自己的光刻工具。 “盡管他們現(xiàn)在可能無法與ASML和尼康競(jìng)爭,但從長遠(yuǎn)來看,你會(huì)看到更多的增長空間和研發(fā)資金。”
然而,Hutcheson 認(rèn)為,如果沒有大量政府補(bǔ)貼,任何公司都無法挑戰(zhàn) ASML 光刻機(jī)的壟斷地位。 “五年前,我提出了這樣一條格言:一個(gè)市場(chǎng)可以維持的無補(bǔ)貼競(jìng)爭對(duì)手的數(shù)量等于市場(chǎng)總規(guī)模的 1/5 除以開發(fā)新一代技術(shù)的成本,然后減去該成本的 1.5 倍, ” Hutcheson說。 “為了吸引市場(chǎng)上的另一個(gè)競(jìng)爭對(duì)手,風(fēng)險(xiǎn)門檻必須足夠低,以便有足夠的可用研發(fā)來支持開發(fā)比當(dāng)時(shí)市場(chǎng)上現(xiàn)有的工具至少多 1.5 種的工具。”
在這 5 年里,這個(gè)最大值保持在 100 個(gè)左右,或者說半導(dǎo)體設(shè)備的子市場(chǎng)越來越多,這解釋了市場(chǎng)整合的原因,從 20 世紀(jì) 80 年代的 20 多家半導(dǎo)體設(shè)備制造商到現(xiàn)在只有少數(shù)幾家。Hutcheson解釋說。
作為半導(dǎo)體行業(yè)的資深人士,Hutcheson見證了ASML是如何通過更好的管理和技術(shù)發(fā)展在過去四十年的滄桑中生存下來的。 Hijink補(bǔ)充說,ASML之所以能活下來,是因?yàn)楸M管多次瀕臨破產(chǎn),但在低周期時(shí),它在研發(fā)上的投入超過了它,并巧妙地邀請(qǐng)了客戶臺(tái)積電、英特爾和三星投資,共同開發(fā)EUV機(jī)器。
通過這筆投資,ASML成功獲得資金收購了總部位于圣地亞哥的光源公司Cymer,并與德國鏡頭制造商蔡司建立了戰(zhàn)略聯(lián)盟。這些關(guān)鍵部件和電子束技術(shù)創(chuàng)造了 ASML 的成功秘訣,是競(jìng)爭對(duì)手無法復(fù)制的。
然而,重復(fù)這樣的成功變得越來越困難。Hutcheson引用了臺(tái)積電首任研發(fā)總裁、英偉達(dá)公司的約翰·陳的話:“沒有一家公司能夠獨(dú)自完成這件事,因?yàn)檠邪l(fā)變得越來越昂貴。”產(chǎn)業(yè)合作。”
Hutcheson 估計(jì),從頭開始開發(fā)一種新的 EUV 工具的成本將需要數(shù)萬億美元,這相當(dāng)于一些國家的國內(nèi)生產(chǎn)總值,而且這是假設(shè)人們繞過了所有的知識(shí)產(chǎn)權(quán)壁壘。 “在某種程度上,它創(chuàng)造了公平的地緣政治競(jìng)爭環(huán)境。因此,也許 EUV 應(yīng)該獲得諾貝爾和平獎(jiǎng),因?yàn)闆]有國家可以攻擊任何其他國家,除非他們擁有 EUV,” Hutcheson打趣道。
高數(shù)值孔徑機(jī)器能否幫助技術(shù)跨越?
隨著英特爾、三星和臺(tái)積電的目標(biāo)是在未來幾年量產(chǎn) 2nm 芯片,并向 1.4-1.6nm 邁進(jìn),ASML 的高數(shù)值孔徑 EUV 成為半導(dǎo)體行業(yè)報(bào)紙的頭條新聞。
一如既往,ASML按照與客戶商定的時(shí)間表將價(jià)值3億美元的高NA機(jī)器運(yùn)送給客戶,并與客戶一起進(jìn)行艱苦的調(diào)整和糾錯(cuò)。媒體一直將高數(shù)值孔徑 EUV 描述為技術(shù)追趕者超越現(xiàn)有企業(yè)的關(guān)鍵。然而,Hutcheson深入研究了光刻之外的半導(dǎo)體制造復(fù)雜工藝所涉及的復(fù)雜性。
“2nm 和 1.4nm 時(shí)代存在很多技術(shù)問題。我們必須看看他們能否成功并將其轉(zhuǎn)化為優(yōu)勢(shì)。”Hutcheson 解釋道,光刻并不是唯一的關(guān)鍵因素,還有其他因素。由于泄漏問題,環(huán)柵(GAA)結(jié)構(gòu)存在問題。 “還有可靠性問題,而且外延層非常差。所以實(shí)際上,材料和系統(tǒng)工程問題比光刻問題更多。”
盡管英特爾似乎已經(jīng)買下了今年所有可用的高NA機(jī)器,但臺(tái)積電并不急于將其應(yīng)用于其1.4-1.6nm工藝。然而,ASML 表示,所有購買 EUV 的客戶都將升級(jí)到高數(shù)值孔徑 EUV。
Hijink 表示:“我認(rèn)為英特爾必須做得更多,嘗試超越臺(tái)積電,這是一個(gè)大膽的舉動(dòng),但這只是英特爾挑戰(zhàn)的一部分。” “他們最大的挑戰(zhàn)不是技術(shù),而是他們想要開展代工業(yè)務(wù),因?yàn)樗麄儽仨殑?chuàng)造足夠的晶圓占地面積或足夠的規(guī)模,以便在經(jīng)濟(jì)上能夠與三星和臺(tái)積電等巨大競(jìng)爭對(duì)手抗衡。因此,這增加了采用晶圓代工的問題他們?nèi)狈?jīng)驗(yàn)的新技術(shù)。”
Hutcheson警告說,現(xiàn)在判斷技術(shù)競(jìng)賽的結(jié)果還為時(shí)過早。但從半導(dǎo)體行業(yè)的歷史來看,數(shù)十年的研究、血汗和淚水,以及修復(fù)大量錯(cuò)誤,加上在正確的時(shí)機(jī)做出正確的決策,并與客戶建立深厚的信任,才造就了今天的 ASML 和臺(tái)積電。
通過收購,ASML 融合了歐洲、亞洲和美國文化,對(duì)于剛剛開始向美國和歐洲擴(kuò)張的臺(tái)積電來說,它可以成為一個(gè)很好的老師。兩者之間如此緊密的聯(lián)系,加上人工智能是半導(dǎo)體未來增長的主要驅(qū)動(dòng)力,可以肯定,未來不會(huì)缺少精彩的故事。
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