外延片指的是在襯底上生長出的半導體薄膜,薄膜主要由P型、量子阱、N型三個部分構成。

外延片需要清洗嗎：

外延片在測量阻值之前需要進行清洗，常用的清洗工藝步驟包括：清洗、甩干，然后測量。

外延片屬于半導體行業，半導體材料在制備過程中，每一道工序都涉及到清洗，而且清洗的好壞直接影響下一道工序，甚至影響器件的成品率。

VGT-1509FH超聲波清洗機：

外延片清洗用到的清洗機配置得有溢流槽與干燥槽。威固特VGT-1509FH超聲波清洗機共有15個功能槽，配置有循環過濾系統、浸泡系統、自動恒溫系統、溢流系統、拋動系統、超聲波清洗系統、慢拉脫水系統、熱風烘干系統等。其中清洗部分與慢拉熱風干燥部份分別獨立電器控制，設備采用環保型有機溶劑洗滌、水溶劑清洗、純水漂洗、慢拉脫水熱風烘干，為環保型清洗機。

超聲波清洗是基于空化作用，即在清洗液中無數氣泡快速形成并迅速內爆。氣泡是在液體中施加高頻（超聲頻率）、高強度的聲波而產生的。因此，任何超聲清洗系統都必須具備三個基本元件：盛放清洗液的槽、將電能轉化為機械能的換能器以及產生高頻電信號的超聲波發生器。

清洗設備的能力為3-8分鐘（可調）清洗一籃。

VGT-1509FH超聲波清洗機配置：

超聲水劑清洗槽：

1、每槽設四面溢流口，溢水槽寬35mm，各槽均為獨立循環槽，由循環泵將洗劑由儲液箱抽出經過濾后再運回清洗槽，即子目槽循環。

2、設置獨立循環過濾系統。

3、配置第四代超聲波發生器，從根本上保證超聲波到有效轉換率，保證超聲波效果并保證超聲波發生器質量到穩定性。

4、超聲波發生器內設單片機，內附特有到定時系統，可根據生產需要任意調整清洗時間并形成一對一的設置，定時更具靈活性，保證清洗到一致性。

5、儲液箱的設置是由隔板分成兩腔，分油后的清潔溶液經循環泵重新抽入清洗槽，實現自我循環，提高溶液到利用率，而分離后到油排放到總排管。

超聲回用純水漂洗槽：

1、設置獨立槽。

2、槽底部設排液閥。

3、槽外設置拋動。

4、設有加熱系統。

慢拉脫水槽：

1、槽體設齒狀溢流結構，純水由純水預熱箱進入。槽外貼保溫棉厚10mm。

2、槽體設“OMRON”數顯溫控系統，檢測槽內工作溫度，溫控范圍：常溫-120℃。

3、槽體上部設抽風小孔，將溢出水蒸汽抽走，防止水氣再次附著于提出到產品上。

4、在烘干槽頂部加設FFU系統，有效減少環境對洗凈效果到影響。（工件加溫后，對灰塵的附著力增強，FFU形成負壓可有效減少環境對洗凈效果到影響，從而根本上提高產品合格率）。