2023年3月29日（德國時間），為半導體光刻設備制造光學元件的卡爾蔡司半導體制造技術公司（以下簡稱蔡司SMT）將在其位于德國黑森州韋茨拉爾的工廠開始建設新的光學元件工廠，以生產DUV（深紫外）光刻設備。它計劃于2025年完成。

ZEISS SMT 是德國領先的光學設備制造商 Carl Zeiss 的子公司，為半導體光刻設備提供光學元件和光掩模系統以及過程控制解決方案。光學元件提供給荷蘭半導體曝光設備制造商ASML，蔡司SMT表示，“全球80%以上的微芯片都是使用我們的光學元件制造的。”

ZEISS SMT 的 Wetzlar 工廠已經為 DUV 光刻設備制造光學元件超過 20 年。），由于對半導體制造設備的需求正在增加，現有的制造能力已經達到極限，所以蔡司唯有擴建。據介紹，新工廠的總生產面積將超過12,000平方米，將額外創造150個工作崗位。該工廠將為最新的 DUV 光刻設備制造和開發光學元件。

該公司還于2023年3月22日宣布，將擴建位于德國黑森州羅斯多夫的研發基地。它計劃到 2026 年底投資超過 2000 萬歐元。該中心專注于納米結構研究和開發以納米精度修復光掩模缺陷的系統。

半導體制造技術正在塑造微電子時代。蔡司半導體制造設備能讓微芯片變得更小、更強大、更節能、更經濟。

蔡司是微芯片生產設備和模塊的全球先進供應商。通過半導體制造光學系統、光掩模解決方案和工藝控制解決方案，蔡司為微芯片生產過程中的光刻、光掩模制造和失效分析提供重要技術。計算機技術的進步在很大程度上依賴于光刻技術的不斷發展——每次推出的新一代技術皆能夠在微型芯片上生產出更精細 的結構。這使得電路更緊湊，每年能生產出更強大、更節能和更具成本效益的微芯片。蔡司從一開始就一直推動半導體 制造技術的發展。蔡司新推出的極紫外（EUV）光刻技術，創造了一系列世代的具有更高集成密度和更強性能的微芯片。