在拜登政府強力施壓下，荷蘭政府周三（8 日）證實，ASML在夏季前將禁售部分「最先進」的深紫外光（DUV）設備給中國大陸。對此，ASML執行長Peter Wennink警告，美國對大陸采取更嚴苛的出口限制，迫使大陸全力強化自家半導體產業，ASML比以往任何時候，更加擔心自己的技術最終被中國攻破。Wennink提到，美國對大陸實施晶片嚴厲制裁，中國別無選擇，只能打造自己的先進晶片生態系，一旦遭美方切斷供應，中國大陸采用任何手段規避西方制裁自己動手建立自己的晶片產業供應鏈是理所當然的。而最終美國不僅搞不垮中國，很可能適得其反。自2019年以來，ASML研發的最先進極紫外光（EUV）設備已禁止銷往中國。如今限制更進一步，ASML將對華限制出口DUV光刻機等半導體技術，加上日本也會本月跟進美國新政，中國芯片制造企業將無法得到新的光刻機設備和服務，這對于中國芯片行業發展有深遠影響。據悉，光刻機在芯片制造中扮演關鍵角色。在半導體制造行業，DUV光刻機可以用于制造7nm及以上制程的芯片，涵蓋了大部分數字芯片和幾乎所有的模擬芯片，隨著先進制程向5nm及以下進化，EUV成為未來光刻技術和先進制程的核心，主要用于7nm及以下先進芯片制造工藝，荷蘭ASML是唯一的供應商。
去年底，華為公布了一項與EUV光刻機相關的專利，能夠提升光刻機的精度以及良品率：據介紹，華為的這項專利發明的核心內容，是提供了一種反射鏡、光刻裝置及其控制方法，能夠解決相干光icon因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，而且，華為研制的光刻設備可以在不改變光刻設備與基板的相對位置的情況下制備所需的圖案，從而避免了平移步驟和對準步驟，從而提高了處理效率以及在基板上的形成。
先不談這項專利何時才能落地，但華為此舉是否意味著對中國“卡脖子”的光刻機市場終于要迎來破局了呢，又是否代表國內的芯片行業要逐漸跟國外說再見了？
華為此次入局光刻機市場其實是一個很好的信號，意味著國內光刻機市場已經迎來了一個更好的研發布局環境，國產光刻機市場也正迎來一個最好的發展時期，至于何時我們才能見到一臺真正印有Made in China的高端光刻機，還得將希望寄予國內的芯片行業。目前國產光刻機產業鏈已經初具規模，除了華為之外，上海微電子、國望光學、國科精密、華卓精科等國產企業都在光刻機領域略有造詣，幾乎所有與光刻機相關的領域國內都有相關的公司與產業分布。靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠。核心工藝和裝備只有掌握在我們自己手中，才能避免受制于人。路漫漫其修遠兮，我國要想在光刻機領域實現完全自主國產化，還有很長的路要走。
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