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        SiC-MOSFET 芯片技術的發(fā)展

        已有25998次閱讀2021-06-11標簽:
         1. 介紹

               半導體芯片技術的發(fā)展使得功率器件能夠有效的利用電能,比如晶閘管和二極管,在電壓和電流控制方面起到了關鍵的作用。相對目前廣泛應用的Si半導體芯片,寬禁帶半導體SiC芯片可以改進產品的性能并降低損耗。SiC材料具有良好的物理特性,與傳統(tǒng)器件相比,SiC器件可以降低50-70%的損耗并且可以在更高的頻率下工作。在系統(tǒng)中采用SiC器件,可以降低產品的功率損耗,也可以減小冷卻系統(tǒng)和被動元件的體積。

              SiC功率器件的使用可以節(jié)省能源和資源,三菱電機一直持續(xù)的對其性能進行改進并降低損耗。本文總結了SiC芯片最新的發(fā)展狀況。

         

        2. SiC 芯片的發(fā)展

        2.1 第二代平面型MOSFETs

              利用我司最新的6英寸SiC晶圓生產線,我們已經(jīng)開發(fā)出了第二代金屬氧化物場效應晶體管(MOSFETs)。對于平面柵MOSFETs,通過使用結型場效應晶體管摻雜技術對MOS的元胞結構進行了優(yōu)化,降低了導通電阻和電容。例如圖1所示,為耐壓1200V的第二代平面柵MOSFETs的導通特性,圖2為其開關損耗與柵極電阻之間的關系曲線。為了方便比較,圖中也給出了第一代MOSFETs在相同區(qū)域內的曲線。對于第二代MOSFETs,由于縮小了元胞間距和采用了其它的改進措施,其導通電阻大約降低了15%。在圖2中可以看出,由于降低了電容和采用了其它的改進措施,使得第二代MOSFETs開關速度更快,開關損耗明顯降低。另外,6英寸SiC晶圓生產線可以使晶圓的厚度更薄,從而降低導通電阻,薄晶圓已經(jīng)在第二代平面柵MOSFETs中開始應用。

              目前,我們已經(jīng)開發(fā)出了耐壓從600V到3300V多種類別的第二代平面柵MOSFETs,并且成功的實現(xiàn)了功率模塊的商業(yè)化。


        1. 第二代平面型MOSFET導通特性

         


        圖2. 第二代平面柵MOSFET開關損耗

        2.2 新型溝槽型MOSFETs

               我們通過采用專有的結構開發(fā)出了搭載溝槽柵MOSFETs功率模塊。由于SiC材料的物理特性,SiC芯片上的電場強度不可避免的增加,尤其是位于溝槽底部柵極氧化層上的電場強度變高了,因此,不同于Si溝槽柵MOSFETs,SiC-MOSFETs需要特殊的考慮。圖3 描述了我們開發(fā)的溝槽柵MOSFETs的結構。為了削弱作用在溝槽底部柵極氧化層上的電場強度,在溝槽的下面部分設置了底部P層(BPW),為了穩(wěn)定BPW部分的電勢,p型摻雜離子是沿溝槽側壁斜向注入的。在溝槽側壁電流流過的部分,成角度的n型摻雜離子注入可以降低電阻。圖4展示了室溫下溝槽柵MOSFETs樣片的導通電阻。圖5展示了其耐壓特性。與平面柵MOSFETs相比,溝槽柵MOSFETs的通態(tài)比電阻在1.84mΩ·cm2時降低了大約50%,雪崩電壓設計為1560V。

               溝槽型MOSFETs的低導通電阻特性將來會被用來減小芯片的尺寸,降低損耗,增加模塊的電流等級。

         


        圖3. 溝槽型MOSFET剖面結構圖


        圖4. 平面型和溝槽型MOSFET導通電阻對比


        圖5. 溝槽型MOSFET關斷狀態(tài)特性

        2.3 集成SBD的MOSFETs MOSFETs

               內部存在體二極管,由于其結構特性,電流可以反向流過MOSFETs,體二極管可以用來作為換流二極管。然而,對于SiC-MOSFETs來說,當體二極管導通的時候,其導通壓降有時會增加。對于高耐壓且面積較大的MOSFETs來說,SBD( Schottky Barrier Diode)作為換流二極管時需要連成一排,體二極管需要進行篩選測試,從而避免正向壓降的增加。

               對于耐壓在3300V或更高的MOSFETs,我們開發(fā)了內置SBD芯片的MOSFETs,其SBD內置于MOSFETs的單位元胞內,無需外置SBD以及對體二極管進行篩選。當電流反向流過內置SBD的MOSFETs時,電流從從漂移層流過所引起的壓降比體二極管PN結壓降低,體二極管不再流過電流。

               圖6展示了內置SBD的MOSFETs樣片的導通特性曲線。其導通特性與常規(guī)的通過柵極電壓控制的MOSFETs相似。因為內置SBD占用的電極面積很小,因此MOSFET導通電阻增加的很小。圖7展示了當MOSFETs的柵極電壓在-5V(關斷)和15V(開通)時內置SBD的MOSFETs反向電流導通特性。數(shù)據(jù)顯示當電壓在大約1V時(SBD的擴散電壓),單極性電流開始線性增加。當MOSFETs的柵極設置為開通時,流過MOSFETs通道的電流疊加在SBD電流上,明顯降低了導通電阻。

              通過應用內置SBD的MOSFETs模塊可以省略掉成排的外置SBDs, 可以簡化測試,縮小模塊的尺寸降低成本。


        圖6. 內置SBD的MOSFET導通特性


        圖7. 內置SBD的MOSFET反向電流導通特性

        3 結論

              我們會持續(xù)地對第二代平面柵SiC-MOSFETs、溝槽柵SiC-MOSFETs和內置SBD的SiC-MOSFETs進行研究開發(fā),進一步改進功率器件的表現(xiàn)。我們希望利用SiC的產品特性來降低各種系統(tǒng)中能源和資源的損耗。

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